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              G-43B4型高精密單面光刻機

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              G-43B4高精密單面光刻機

              產品介紹:

              設備概述:

              本設備是我公司根據市場需求研發的產品,通常情況下可曝光基片尺寸為:Φ4",對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻,它特別適用做一次光刻的產品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤等,此設備光的均勻性非常好(在Φ100mm范圍內≤±4%),所以大大提高了設備的光刻質量。

              主要構成
              主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯式真空泵及附件箱等組成。

              G-43部件圖1e7c8f068b56562cf2ffb223f0559bd








              曝光頭及部件圖

              主要功能特點

              1. 適用范圍廣
              適用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
              2.
              結構先進
              本設備配置有可實現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構;具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
              3.
              操作簡便
              本設備操作簡單,調試、維護、修理等都非常簡便。
              4.
              設備運行穩定、可靠
              采用進口電磁閥、按鈕、定時器;采用獨特的氣動系統、真空管路系統和精密的機械零件,使本機具有非常高的可靠性。
              5.
              特設功能
              除標準承片臺外,還可以為用戶定制專用承片臺,來解決非圓形基片、碎片和底面不平 的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準的問題

              主要技術指標

              1.操作方式:手動;

              2.曝光模式:接觸式曝光;

              3. 曝光面積:Φ4"

              4.紫外光源:g線(436nm)或i線(365nm);

              5. 曝光分辨率:3um

              6. 曝光頭汞燈為GCQ350W型超高壓直流球形汞燈。


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