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              • G-25D6型高精密單面光刻機?
                G-25D6型高精密單面光刻機?

                一、主要用途:本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。二、 主要性能指標1、

              • G-25D4型高精密單面光刻機
                G-25D4型高精密單面光刻機

                一、主要用途:本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。二、 主要性能指標1、

              • G-25型高精密單面光刻機
                G-25型高精密單面光刻機

                鑫南光小編為大家介紹四川光刻機信息:一、G-25型光刻機的主要用途本設備廣泛應用于進行批量生產的各大、中、小型企業,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構

              • G-25X型高精密單面光刻機
                G-25X型高精密單面光刻機

                G—25X型精密光刻機主要技術指標一、主要用途 本設備是我公司針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性專門研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的

              • G-25XA型高精密單面光刻機
                G-25XA型高精密單面光刻機

                關于G-25XA型精密光刻機產品介紹:一、主要用途: 本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表

              • G-26型高精密單面光刻機
                G-26型高精密單面光刻機

                G-26型高精密光刻機 產品介紹:設備概述:本設備廣泛應用于進行批量生產的各大、中、小型企業,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產,由于本機找平機構**,

              • P2型高真空排氣臺
                P2型高真空排氣臺

                P2型高真空排氣臺介紹:一、 本設備用于真空器件的排氣處理。二、 主要技術指標:1、 *高溫度:500℃。2、 工作溫度:400℃。3、 有效工作區尺寸:Φ700×700mm

              • 成都電熱恒溫鼓風干燥
                成都電熱恒溫鼓風干燥

                成都電熱恒溫鼓風干燥設備特點:設備適用范圍廣,可用于對各類小型產品的干燥、固化、烘焙、溫度老化等工藝。本系列產品結構牢固,造型新穎、美觀大方。電控關鍵配件均為進口國際名牌配件,設備整體質量得到**。可

              • 四川真空儲存柜
                四川真空儲存柜

                鑫南光小編為大家介紹四川真空儲存柜的參數:一、用途:本設備主要用于各類器件、原料在低真空狀態下,進行低溫干燥、儲存之用。也可用于電極膠片干燥、儲存之用。二、主要技術數據:1、外形尺寸(L×W×H):

              • 四川真空排氣臺
                四川真空排氣臺

                關于四川真空排氣臺的產品介紹:一、 P06-50型雙真空排氣臺用途:本設備用于真空器件的排氣處理。二、 主要技術指標:1、 *高溫度:500℃。2、 工作溫度:400℃。3、 有效

              • G-43D6型高精密單面光刻機
                G-43D6型高精密單面光刻機

                G-43D6型高精密單面光刻機 產品介紹:設備概述: 本設備是我公司根據市場需求研發的產品,可以光刻Φ6"以下基片,對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對

              • G-43D4型高精密單面光刻機
                G-43D4型高精密單面光刻機

                G-43D4型高精密單面光刻機產品介紹:設備概述: 本設備是我公司根據市場需求研發的產品,可以光刻Φ4"以下基片,對被光刻基片的外形、厚度要求較低,可對多種材料的基片進行光刻。它特別適用進行一次光刻的

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