<address id="93n9p"><listing id="93n9p"><meter id="93n9p"></meter></listing></address>

    <form id="93n9p"><listing id="93n9p"></listing></form>

    <sub id="93n9p"></sub>

    <address id="93n9p"></address>

          <address id="93n9p"><listing id="93n9p"><menuitem id="93n9p"></menuitem></listing></address>

              <address id="93n9p"><nobr id="93n9p"><meter id="93n9p"></meter></nobr></address>

              歡迎訪問成都鑫南光機械設備有限公司官方網站!

              成都鑫南光機械設備有限公司

              二十年專業品質 通過ISO9001質量體系認證

              立即咨詢

              24小時咨詢熱線:
              13908187709
              產品中心
              當前位置 當前位置:首頁 > > 產品中心
              • G-33Y4型高精密雙面光刻機
                G-33Y4型高精密雙面光刻機

                G-33Y4型高精密光刻機 產品介紹:設備概述本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學器件研制和生產,由于本機找平機構**,找平力

              • G-33D6型高精密雙面光刻機
                G-33D6型高精密雙面光刻機

                G-33D6型高精密光刻機 產品介紹:設備概述本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學器件研制和生產,由于本機找平機構**,找平

              • G-33B6型高精密雙面光刻機
                G-33B6型高精密雙面光刻機

                G-33B6型高精密光刻機產品介紹:設備概述本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學器件研制和生產,由于本機找平機構**,找平力小,使本機

              • G-31D6型高精密雙面光刻機
                G-31D6型高精密雙面光刻機

                G-31D6型高精密光刻機產品介紹:設備概述 本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和

              • G-31D4型高精密雙面光刻機
                G-31D4型高精密雙面光刻機

                G-31D4型高精密光刻機 產品介紹:設備概述 本設備廣泛用于各大、中、小型企業、大專院校、科研單位,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、

              • G-33Y6型高精密雙面光刻機
                G-33Y6型高精密雙面光刻機

                1、 主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。2、 主要性能指標:(1) 高均勻蠅眼曝光頭。a、

              • G-33D4型高精密雙面光刻機
                G-33D4型高精密雙面光刻機

                一、主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) UV-LED紫外燈平行光光

              • G-33B4型高精密雙面光刻機
                G-33B4型高精密雙面光刻機

                一、主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) 高均勻性曝光頭。a、 采用

              • G-31B6型高精密雙面光刻機
                G-31B6型高精密雙面光刻機

                一、主要用途主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。二、設備主要性能指標:1、工作臺行程(X向、Y向/Z向/θ向):±5mm/10mm/±

              • G-31B4型高精密雙面光刻機
                G-31B4型高精密雙面光刻機

                一、主要用途主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。二、主要性能指標:曝光類型:版版對準雙面曝光曝光面積:≥φ100mm曝光不均勻性:≤±

              • G-30D4型高精密單面光刻機
                G-30D4型高精密單面光刻機

                一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各生產單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。二、 主要性能指標1、曝光類型:

              • G-30B4型高精密單面光刻機
                G-30B4型高精密單面光刻機

                一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。二、 主要性能指標1、

              鑫南光咨詢服務熱線:
              13908187709

              立即在線咨詢預約

              掃一掃有驚喜哦

              二維碼
              地址:成都市蛟龍工業港雙流園區渤海路36號(3座)
              版權所有:

              成都鑫南光機械設備有限公司

              備案號:蜀ICP備12015633號-3

              網站地圖 RSS XML  
              聯系人:劉經理 電話:028-85730589     技術支持:  萬家燈火  
                全國服務熱線:15390063681  郵箱:x.n.g@163.com
              盈利彩票